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影响离子镀膜层质量的工艺参数

2018-01-30  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:455

  影响离子镀膜层质量的工艺参数

  ①基片偏压.

  离子镀膜基片施加负偏压后;各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面.基片负偏压的提高,会使基片表面获得更高的能量,可能形成伪扩散层,提高膜层与基体的附着力,还可以改变膜层的组织、结构和性能,如细化晶粒,随着基片负偏压的提高,膜层组织变细,但是,基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响,如反溅射作用的增加,使膜层表面受到刻蚀,使表面光洁程度降低,空心阴极离子镀铬时,基片负偏压对铬膜表面光泽度的影响,基片负偏压的提高还会使沉积速率降低,使基片温度升高,电弧离子镀tin膜基片负偏压对沉积速率的影响,因此,应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。

  ②镀膜真空度和反应气体分压.

  离子镀膜真空度对膜层组织、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似,但反应气体分压对反应离子镀镀制化合物膜的成分、结构和性能有直接的影响,因此反应气体的分压应根据离子镀方法,化合物膜层的成分、性质、使用要求以及设备来选择

  ③基片温度.

  离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的组织、结构和性能。一般情况下,温度的增高有利于提高膜层与基片的附着力,有利于改善膜层的组织与性能。但是,温度过高,则会使沉积速率降低,有时还会使膜层晶粒粗大,性能变坏;另外,基片温度的选择还要受基片材料性质的限制,如钢材的回火温度等

  ④蒸发源功率.

  蒸发源功率对蒸发速率有直接的影响,进而影响沉积速率,影响膜层的组织、性能,对反应沉积化合膜时蒸发源功率也将影响膜层的成分。


肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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