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溅射镀膜机的技术特点

2018-08-07  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:375

  溅射镀膜机的技术特点

  溅射镀膜机是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。

  现在我们的溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜,通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。目前人们开发出了溅射速率较高的射频溅射、三极溅射和磁控溅射技术。

  射频溅射是采用频率为13.56MHZ的高频交变电场使气体放电产生等离子体。对于绝缘靶材射频溅射最具优势。极溅射是利用热丝弧光放电增强辉光放电产生等离子体,但三极溅射难以实现大面积均匀镀膜,工业上未获得广泛应用。提高溅射镀膜的速率,关键是提高靶材的溅射率,这就必须提高等离子体的电离度,即在相同的放电功率下,获得更多的离子,从离子轰击靶面的溅射产物看,除了击出原子或分子外,还击出二次电子,这些电子被电场加速后与气体原子或分子发生碰撞又引起气体电离。

  其充分利用二次电子的能量是提高等离子体电离度的有效途径,磁控溅射是在阴极靶面建立跑道磁场,利用其控制二次电子运动,延长其在靶面附近的停留,增加与气体的碰撞几率,从而提高等离子体密度。这样可以大大提高靶材的溅射速率,最终提高沉积速率。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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